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第510章 十八纳米光刻机

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击在这团锡云上!

    “轰!”

    在真空的微观世界里,高能激光瞬间将锡气化,将其激发成温度高达几十万度的等离子体。

    就在这等离子体诞生的刹那,它释放出了一束微弱却又纯粹无比的极紫外光。

    每秒钟五万次的精准狙击,每秒钟五万次的等离子体爆发,才勉强凑够了能够用于曝光的光源亮度。

    “产生光源只是第一步。更要命的问题,是如何控制它。”

    光源组的负责人看着实验数据,满脸愁容,“EUV光太脆弱了,所有的传统玻璃透镜都会吸收它。光线根本穿不透过去。”

    “既然无法穿透,那就只能反射。”

    光学研究所接过了这根接力棒。他们放弃了传统的折射透镜,转而为这台光刻机量身打造了一套复杂的全反射镜组。

    这要求反射镜的表面平整度,达到一个违背常理的境界。

    “多层镀膜,硅与钼的交替叠加,这都只是基础。”

    负责打磨这块镜片的光学大匠,指着那块直径超过一米的巨大反光镜,“它的表面粗糙度,必须控制在二十皮米以内。”

    这是什么概念?

    “如果把这块镜子放大到我们大夏一个行省那么大。”院士用了一个形象的比喻,“那么这块大地上最高的山峰或最深的峡谷,起伏绝对不能超过一根头发丝的厚度!”

    这是真正的原子级平坦。

    大夏的能工巧匠们,用离子束抛光技术,在无尘车间里耗费了数年光阴,才勉强磨出了几块合格的镜片。

    而这,还仅仅只是光刻机数万个精密零件中的冰山一角。

    为了防止光线被吸收,整个光刻过程必须在严苛的高真空环境中进行。

    为了保证套刻精度,承载硅片的机械双工作台,在高速移动和刹车时,其定位误差不能超过几纳米,这相当于两列高速行驶的动车并排行驶,误差不能超过一粒米。

    这项被命名为极光的超级工程,几乎抽干了大夏近二十年在材料学、流体力学、精密机械加工和光学领域的全部顶尖心血。

    ……

    【神谕纪元·三五二六年】

    王都,大夏半导体核心制造基地。

    整整二十年的试错与图纸迭代。

    无数次因为碎屑污染反射镜而导致的停机清洗,无数次因为

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