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第310章 土法上马

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间里应该都有。”

    她转身去了仓库。二十分钟后,拿着几个瓶瓶罐罐回来。重铬酸钾、明胶粉、蒸馏水。

    就在工作台上,王技术员开始配胶。动作很熟练,称量、溶解、搅拌、过滤。最后得到一小瓶淡黄色的粘稠液体。

    “这就是?”陈启明凑过来看。

    “嗯。”王技术员把胶涂在一片玻璃片上,用甩胶机甩匀,形成一层薄膜,“但还没完,得‘敏化’。重铬酸盐本身感光性不强,需要加入胺类物质增强。常用的有二乙醇胺......”

    “我们有吗?”

    “没有。”王技术员摇头,“而且敏化后,胶的寿命更短,最多两小时。”

    赵四看着那层淡黄色的胶膜,脑子里飞快地转。重铬酸盐明胶......分辨率低、稳定性差、寿命短,问题一大堆。

    但它是光刻胶。能在紫外线下硬化,能形成图案。

    而且原料易得。重铬酸钾是常用化工原料,明胶更不用说。

    “王工,”他忽然问,“如果不用胺类敏化,直接用重铬酸盐,感光性差多少?”

    “差很多。”王技术员说,“可能需要曝光时间延长几倍,而且线条边缘不锐利。”

    “但如果我们的光刻机曝光能量足够强呢?”

    “那......也许可以试试。”王技术员不太确定,“但赵总工,这东西真不行。国际上的光刻胶都是专门的感光树脂,分辨率能达到微米级。咱们这个,可能连十微米都做不出来。”

    “先别管国际上。”赵四说,“咱们的目标是做出能用的芯片,不追求性能多好。十微米的线条,对4位处理器来说,够不够?”

    他看向陈启明。

    陈启明皱眉想了想:“4004的最小线宽是8微米。如果咱们放宽到10微米……芯片面积会大一些,但功能应该能实现。”

    “那就先解决有无问题。”赵四拍板,“王工,你带几个人,全力攻关重铬酸盐明胶。目标是:一、配方稳定,批批能用;二、分辨率尽量高;三、寿命尽量长。”

    “好……我试试。”王技术员压力很大。

    “不是你一个人。”赵四说,“林雪,你配合王工,负责测试。每配一批胶,马上上机试,记录效果。张卫东,你改造光刻机的曝光系统,提高紫外光强度,补偿感光度不足。”

    “明白!”

    “陈启明,你调整设计。”赵四继续说,“既然工艺能力有限,咱们就把设计放宽。线宽统一加到10微米,间距也放宽。先保证能做出来,再谈性能优化。”

    “行。”

    任务分下去,车间又动起来了。但气氛不一样了。之前是为提高良品率奋斗,现在是为生存奋斗。

    王技术员的小组当天就配了五批胶,每批配方稍有不同。重铬酸盐浓度、明胶比例、水浴温度、搅拌时间……全都记录在案。

    林雪带着人一批批试。效果确实不理想。有的胶涂不均匀,有的曝光后根本硬不起来,有的显影时整片脱落。

    到了下午,终于有一批勉强能用。在硅片上曝光后,能形成模糊的图案,虽然线条边缘像狗啃的一样,但至少是个图案。

    “赵总工,您看。”林雪把晶圆递过来。

    赵四对着光看。线条很粗糙,有的地方宽,有的地方窄,但连续性是好的。

    “能蚀刻吗?”

    “试了,能。”林雪说,“但蚀刻后的线条更难看,而且有钻蚀现象。”

    “先不管美观。”赵四放下晶圆,“用这个胶,做一片完整的芯片,从开始到结束,全过程走一遍。看最终能不能出管芯,能不能测试。”

    “现在?”

    “现在。”

    整个车间都动员起来。这是第一次用自制光刻胶走完整流程,每个人都紧张。

    涂胶、前烘、曝光、显影、后烘、蚀刻……一步接着一步。王技术员全程跟着,脸色煞白,手都在抖。

    赵四没催她,只是站在旁边看。

    蚀刻完成时,天已经黑了。硅片上传质层上,出现了歪歪扭扭但完整的电路图案。

    “成了!”有人小声说。

    “还没完。”陈启明很

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