接近式光刻机来说可不仅仅是技术更新了一代而已，而是已经发生了本质的变化。
最开始的接触式光刻机是掩膜直接压在晶圆上，这种十分容易刮片，分辨率也低，之前华国大部分半导体工厂就使用的这种光刻机，良率也低。
而接近式光刻机顾名思义，那就是掩膜和晶圆不接触，留一点点小缝隙。
它比接触式好一点，但是分辨率还是差，良率也不高。
可是当时陈望着急制造伺服电机和打字计算机的芯片，所以只能先研发接近式光刻。
而在光刻机的发展历史上接近式光刻机也只有一个过渡的作用，因为它在被研发出来后，很快就被投影式光刻机取代了。
此时国外市场最炙手可热的就是投影式光刻机。
投影式光刻机就是完全不接触，直接用精密镜头把图案缩小，投射到晶圆上。
这种不仅完全不刮片、不脏片，而且分辨率极高。
接近式光刻机分辨率的极限是3-5微米，当初陈望伺服电机和打字计算机的芯片就是擦着接近式光刻机的极限制造出来的。
但是投影式光刻机的起步点就是1-2微米，然后通过不断升级，分辨率的单位就能从微米变成纳米。
这些都是后话了，此时陈望首要的是要把微米级别的投影式光刻机研发出来。
因为本质不同，所以想要研发出投影式光刻机有几大难点需要攻克。
比如高精度缩小投影镜头，亚微米级对准系统，高精度工作台，更强更稳定的光源与照明，还有掩膜、环境、工艺的全部升级。
对于陈望来说，其中最难的就是高精度缩小投影镜头，因为这东西的材料国内现在根本烧不出来。
而其他几个难点在他研发接近式光刻机的时候或多或少都改进了行业的生产工艺，研发了相关的仪器设备，现在还有加工精度能达到亚微米级别的机床，所以工作台、导轨、结构件这些卡脖子的机械部分都不算大问题。
所以现在最大的难点就是光学玻璃材料。
但是陈望已经搞出来了！
他今天就是去测试成品的，如果成功就没有难点了，嘿嘿嘿！